供应激光刻膜机_武汉激光刻膜机

					  	
						
		    			
							SEF-G5：激光刻膜机
 

激光刻膜机技术参数:
 




型号规格

SEF-G5


有效加工幅面

1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）


较大运行速度  

2000mm/s 


重复定位精度  

±10μm  


刻线直线度    

±10μm / 1000 mm  


典型刻膜线宽  

30～60μm 


三线外沿总宽度 

300～500μm   
  
选项和配件：
高标配，可根据需要移除不需要的部件。
 
激光刻膜机应用和市场：
非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。